SBU · Advanced Process · Semiconductor

SEMI­CONDUCTOR // 先进制程 · 超高纯气路控制

在 2026 年国产 7nm/5nm 产线爬坡的关键窗口期,原子级精度的流体控制,为刻蚀、薄膜沉积与超纯介质输送工艺提供绝对的良率保障。

2026 战略地位:核心护城河
01 · 核心技术规格
04 · 风险矩阵

2026 战略行动路线

02 · Strategic Actions & Execution Timing

03 · 产品适配矩阵
产品型号 阀门功能 适用工艺 匹配度
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'S STRATEGIC ANALYSIS 2026 DATA SOURCE: SEMI · NBS · DELOITTE · MCKINSEY
目录
01核心数据 02技术规格 03战略行动 04风险矩阵