SEMI­CONDUCTOR // 先进制程 · 超高纯气路控制

在 2026 年国产 7nm/5nm 产线爬坡的关键窗口期，原子级精度的流体控制，为刻蚀、薄膜沉积与超纯介质输送工艺提供绝对的良率保障。